Czym się zajmujemy
- Wytworzenie urządzenia typu np. FET lub OLED metodami próżniowymi lub roztworowymi wraz z enkapsulacją urządzenia i pełną charakterystyką jego właściwości elektrycznych
- Charakterystyka właściwości optycznych i elektrycznych warstw z testowanego materiału
- Optymalizacja procesów wytwarzania warstw aktywnych metodami roztworowymi
– w układzie komór rękawicowych
– w pomieszczeniu CLEANROOM klasy ISO5 - Optymalizacja procesu naparowywania próżniowego związków organicznych
- Optymalizacja procesu naparowywania próżniowego warstwy metalicznej (np.: Ag, Au, Al, Ca, itp.)
- Proces aktywacji powierzchni/czyszczenie powierzchni z zastosowaniem aktywnej plazmy
- Pomiar absorbancji próbki w postaci ciekłej lub cienkiej warstwy
- Kontaktowy pomiar profilu powierzchni z wysoką rozdzielczością wraz z analizą chropowatości próbki
- Odwzorowywanie kształtu maski na podłożu – wykonywanie pierwszego i kolejnych poziomów fotolitografii
- Optymalizacja procesu nanoszenia ścieżek z zastosowaniem atramentu na bazie testowanego materiału wykazującego właściwości przewodzące
- Określanie elektropowinowactwa w cząsteczkach
- Badanie poziomów HOMO/LUMO cząsteczek
- Badanie polaryzowalności
- Wpływ podstawników na właściwości przenoszenia ładunku
- Obliczenia stopnia perkolacji w zależności od kształtu wypełniacza
Symulacje molekularne
- Określanie elektropowinowadztwa w cząsteczkach
- Badanie poziomów HOMO/LUMO cząsteczek
- Badanie polaryzowalności
- Wpływ podstawników na właściwości przenoszenia ładunku
