Elektronika organiczna

Wytworzenie urządzenia typu np. FET lub OLED metodami próżniowymi lub roztworowymi wraz z enkapsulacją urządzenia i pełną charakterystyką jego właściwości elektrycznych
Charakterystyka właściwości optycznych i elektrycznych warstw z testowanego materiału
Optymalizacja procesów wytwarzania warstw aktywnych metodami roztworowymi
– w układzie komór rękawicowych
– w pomieszczeniu CLEANROOM klasy ISO5
Optymalizacja procesu naparowywania próżniowego związków organicznych
Optymalizacja procesu naparowywania próżniowego warstwy metalicznej (np.: Ag, Au, Al, Ca, itp.)
Proces aktywacji powierzchni/czyszczenie powierzchni z zastosowaniem aktywnej plazmy
Pomiar absorbancji próbki w postaci ciekłej lub cienkiej warstwy
Kontaktowy pomiar profilu powierzchni z wysoką rozdzielczością wraz z analizą chropowatości próbki
Odwzorowywanie kształtu maski na podłożu – wykonywanie pierwszego i kolejnych poziomów fotolitografii
Optymalizacja procesu nanoszenia ścieżek z zastosowaniem atramentu na bazie testowanego materiału wykazującego właściwości przewodzące
Określanie elektropowinowactwa w cząsteczkach
Badanie poziomów HOMO/LUMO cząsteczek
Badanie polaryzowalności
Wpływ podstawników na właściwości przenoszenia ładunku
Obliczenia stopnia perkolacji w zależności od kształtu wypełniacza

Symulacje molekularne: